10月28日晚，微电子学院前沿技术分享系列讲座（三）顺利开讲。本次讲座特邀王善兰博士作题为《集成电路中FinFET技术应用》的专题分享，学院全体专业教师参会学习交流。

王善兰博士从平面MOS器件按比例缩小（Scaling）面临的困境切入，围绕FinFET结构原理、制造工艺难点、器件可靠性、全球产业格局、国内产业链现状及GAA技术演进六大模块展开系统讲解，梳理了摩尔定律下半导体器件的迭代脉络，剖析了32nm节点平面MOS遭遇的物理瓶颈，解读了FinFET三维器件的核心优势。

她梳理了台积电（中国台湾）、三星、英特尔、中芯国际的工艺发展现状，分析了国内集成电路产业“设计强，制造、设备、材料薄弱”的格局，以及国产替代背景下行业人才缺口突出的问题。她指出：校企订单班的实践证明，产教融合是破解人才供给难题的有效路径。

本次讲座将器件物理、工艺制造、产业应用与人才培养贯通起来，助力教师精准把握行业技术发展前沿。下一步，微电子学院将持续引入产业优质资源，推动前沿技术反哺课堂教学，进一步深化产教融合，全面提升教师工程实践与教学能力，为集成电路产业培育更多高素质技术技能人才。（文/图：黄仁静、刘锡锋，复审：徐敏，终审：叶露林）