据外媒报道，ASML首席执行官Christophe Fouquet在受访时表示，预计High-NA EUV光刻机将于2027~2028年正式投入先进制程的大规模量产。

Fouquet表示，High-NA EUV光刻机目前正由英特尔等客户测试，结果显示新设备的成像和分辨率表现良好，该企业2026年的任务之一是与客户合作将设备的停机时间最小化。

Fouquet还提到，ASML对未来10~15年的大致技术路线已有一定的概念，已启动下一代Hyper-NA EUV研究，计划本世纪30年代投入使用。