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2026-01-13
SK海力士与东进半导体合作开发高性能EUV光刻胶
2026-01-13
ASML CEO预计High-NA EUV光刻机在2027~2028年用于先进制程大规模量产
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2026-01-13
DNP与佳能合作推动纳米压印制造1.4nm芯片，成本能耗可降九成
2026-01-13
中国科学院上海光机所等在国际上首次采用垂直布里奇曼法制备出8英寸氧化镓晶体
2025-11-24
德国于利希超级计算中心和英伟达合作首次完全模拟具有50个量子比特的通用量子计算机
2025-11-24
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2025-11-11
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2025-11-03
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